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氣浮平臺

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  • 所屬分類:光學平板

  • 點擊次數:2556
  • 發布日期:2020-08-09
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詳細介紹

QF系列氣浮平臺技術指標:

應用范圍: 氣浮隔振光學平臺廣泛應用于光學,電子,精密機械制造,冶金,航天,航空,航海,精密化工和無損檢測等領域,以及其他機械行業的精密試驗儀器,設備振動隔離的關鍵裝置中。

特點: 采用半膜片式空氣彈簧,隔振性能好, 固有頻率通常小于1.5HZ~3HZ, 性價比非常高的科研級氣浮隔振光學平臺。

自動平衡:自動充氣,自動平衡,響應時間短,平衡速度快

■固有頻率: <1.5HZ~3HZ,同負載和實際使用情況相關

重復定位精度: 土0.05MM

■ 靜音氣泵:排氣量: 20L/MIN排氣壓力; 0.7MPA電壓頻率: 220V 50HZ運行噪聲: 40DB

表面粗糙度: 表面粗糙度為0.8MM

■臺面結構: 三層夾心式蜂窩結構

上臺面: 5~6MM430高導磁不銹鋼,表面做密迪紋亞光處理(避免臺面反光)

臺面內部支撐:鋼制蜂窩狀支撐結構,焊接工藝,強度高

下底面: 4~6MM厚碳鋼,內部做防銹漆,表面噴黑塑處理

■側板: 內層碳鋼板,外層為黑色鋁塑板,美觀實用,四角用不銹鋼板包角

平面度: 0.02一0.05MM \ 600MMX600,高于國外同類產品

臺面孔距/ 孔徑:孔距: 25MMX25MM孔徑: M6國標公制螺紋

臺面厚度/重量: 200MM厚度臺面/臺面重 量225公斤

■ 氣浮支撐:半膜片式空氣彈簧,支撐腿內部還有二級氣室,進一步提升隔振性能,整體焊接式四或六支撐結構(3米為六支撐),具有更好的剛性和穩定性,支架帶上下兩套高度(水平)調整機構,臺面加支架總高度800MM,上下可調25MM。

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